溅射靶材（关于溅射靶材的简要介绍）

2023-03-18 15:10:14

关于溅射靶材，有许多人不了解，那么下面来看看小程对溅射靶材的相关介绍。

溅射靶材

1、磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。

2、一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。

3、上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。

4、因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。

5、磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

以上就是关于溅射靶材的全部内容，希望能够有助于大家了解。